簡介
高真空磁控離子濺射鍍膜機是材料科學和樣品制備的理想選擇。它廣泛用于廣大高校和科研院所的材料科學與工程鍍膜，用于金屬、陶瓷、半導體、絕緣體或其他各種膜材料的制備。
高真空磁控離子濺射鍍膜機提供最穩定的濺射環境，在極短的時間內達到磁控濺射的基本實驗條件。提供DC/RF兩種濺射功率選擇，可在試樣上濺射導電或非導電物質，提高物理氣相沉積（PVD）性能。它也非常適合表面處理和涂層。它易于操作，對用戶極其友好。
鍍膜儀包含有真空泵和冷卻器。
參數
真空泵 | （泵油）旋轉真空泵+（免油）渦輪分子泵組 |
旋轉真空泵轉速 | 50 Hz:16m3/h (4.4L/s)/60 Hz:19.2m3/h (5.2L/s) |
分子泵轉速 | 300 L/s |
極限真空度 | 5x10-5Pa |
工作壓力 | 0.5-5 Pa |
抽真空時間 | >10 Min(10-3Pa) |
真空測量 | 測量范圍從大氣壓到 1*10-6Pa |
氣體控制 | 氣體流量控制閥 |
腔體尺寸 | φ260*200mm (高) 金屬 |
磁控靶源 | 靶尺寸φ50*3mm(Cu)/濺射靶源: 弱磁性物質/材料 |
操作方法 | 操作手冊 |
重量/尺寸 | 100kg/610mm長x420mm寬x490mm高 |
電源 | AC 110V 60Hz 或 AC 220V 50Hz |
電源功率 | <3000W |
冷卻方式 | 風冷(泵)+水冷(濺射靶) |
質量保證 | 一年有限質量保證/保修/支持 |
IPv6 network supported
