簡介
磁控離子濺射裝置和熱蒸發碳鍍膜機是實驗室SEM樣品制備的理想選擇。SD900C 型號（磁控離子濺射裝置）廣泛用于在非導電或熱敏 SEM 樣品上鍍Au以獲得更好的成像效果。它還非常適合表面處理，避免損壞基板樣品。
SD900C型號（熱蒸發碳單元）碳涂層機在樣品表面涂上薄薄的導電碳膜。將此涂層應用于非導電樣品是一種有效的制備技術，可減少用于SEM分析的充電電子偽影。
使用合適的真空泵，5分鐘內即可快速達到工作真空壓力。它對用戶友好且易于操作。
鍍膜儀包括真空泵，冷卻器是可選配。(用于磁控離子濺射裝置)
參數
真空泵 | （泵油）旋轉真空泵 |
旋轉真空泵轉速 | 50 Hz : 8 m3/h (2.2 L/s)/ 60 Hz :9.6m3/h (2.6 L/s) |
極限真空度 | 2Pa |
最大濺射電流 | 100mA |
最大蒸發電流 | 100A |
濺射工作壓力 | 20Pa-8Pa |
工作真空壓力 | 6Pa-4Pa |
真空測量 | 測量范圍從大氣壓到2*10-2mbar |
氣體控制 | 氣體流量控制閥 |
腔體尺寸 | Φ150*120mm (長)抗刮石英玻璃 |
磁控靶源 | 靶尺寸 φ50*0.1mm(金)/濺射靶源: 金、銀、鉑 |
蒸發靶源 | 濺射材料：碳繩/濺射靶源：碳繩 |
操作方法 | 操作手冊 |
（2單位）重量/（1單位）尺寸 | 55kg/360mm長x300mm寬x380mm高 |
電源 | AC 110V 60Hz 或 AC 220V 50Hz |
能量消耗 | <2000W |
冷卻方式 | 風冷(泵)+ 水冷(濺射靶) |
質量保證 | 一年有限質量保證/保修/支持 |
IPv6 network supported
